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等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗

產品簡介

等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗鄭州科探屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備,主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。

產品型號:KT-S2DQX
更新時間:2023-11-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:1615
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品牌其他品牌產地類別國產
應用領域電子

一、產品應用原理:
(1)等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備,主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。  

(2)該清洗機內置不高純石英倉體,容積為2升,結構為上的通用結構。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術,使其有效容積增大,不同真空氣體環境下容易匹配,且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內,即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗樣品清洗和教學。  

(3)KT-S2DQX型等離子清洗機電源屬于150W13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備,主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。  

二、作用過程:
(1)該低溫表面等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗內置高純石英倉體,容積為2升。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術,使其有效容積增大,不同真空氣體環境下容易匹配,且控制頻率穩定。
(2)真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內,即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗樣品清洗和教學。

供電電源

AC220VAC110V可選)

工作電流

整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)

射頻電源功率

150W

射頻頻率

13.56MHz

頻率偏移量

0.2MHz

特性阻抗

50歐姆,手動匹配

耦合方式

感應耦合式(線圈耦合)

真空度

≤100Pa

腔體材質

高純石英

腔體容積

2L(內徑110MMX深度220MM)

觀察窗內徑

Φ70

氣體流量

10—600ml/min(其他量程可選)

過程控制

過程手動控制

清洗時間

手動開關

開蓋方式

鉸鏈側開式法蘭

外形尺寸

400x380x360mm

重量

23Kg

真空室溫度

小于65°C

冷卻方式

強制風冷

標配

KF16波紋管1米,kf16卡箍2個,電源線一根,說明書一本。


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