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直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜

產品簡介

直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射

產品型號：KT-Z1650PVD
更新時間：2024-03-27
廠商性質：生產廠家
訪問量：693
產品咨詢 15136134901

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0371-60308298

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品牌鄭科探濺射氣體根據需求通氣
樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材質金 鉑 銅 銀 等價格區間面議
產地類別國產應用領域綜合

直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射

單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。

所配電源為1000W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。

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直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜技術參數；

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa（5分鐘）   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  （可安裝φ50基底）

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa）

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




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