真空加熱臺(tái)腔體設(shè)備特點(diǎn):本真空樣品加熱臺(tái)腔體為桌面式高溫。用于少量樣品功能陶瓷,光學(xué)材料,碳復(fù)合材料,硬質(zhì)合金,粉末冶金等在高溫條件下進(jìn)行燒結(jié)處理,也可用于對(duì)樣品高溫真空環(huán)境的電信號(hào)測(cè)試。
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產(chǎn)品分類0371-60308298
真空加熱臺(tái)腔體設(shè)備特點(diǎn):本真空樣品加熱臺(tái)腔體為桌面式高溫。用于少量樣品功能陶瓷,光學(xué)材料,碳復(fù)合材料,硬質(zhì)合金,粉末冶金等在高溫條件下進(jìn)行燒結(jié)處理,也可用于對(duì)樣品高溫真空環(huán)境的電信號(hào)測(cè)試。
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