亚洲精品V天堂中文字幕,亚洲国产日韩精品一区二区,精品一区二区三区在线视频,一本色道久久88综合日韩精品

技術(shù)文章

Technical articles

當(dāng)前位置:首頁技術(shù)文章

  • 20241-26
    電感耦合和電容耦合的區(qū)別和應(yīng)用場(chǎng)景

    1.電感耦合(InductivelyCoupledPlasma,ICP):電感耦合等離子體是通過高頻磁場(chǎng)與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電感耦合的過程中,高頻電流通過螺線管產(chǎn)生高頻磁場(chǎng),高頻磁場(chǎng)切割等離子體產(chǎn)生渦旋電流,從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點(diǎn)是穩(wěn)定性好,能量傳遞高效,適用于高密度等離子體的產(chǎn)生,廣泛應(yīng)用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領(lǐng)域。2.電容耦合(CapacitivelyCoupledPlasma,CCP):電容耦合等離子體是通過交變電場(chǎng)與等離子體...

  • 20241-26
    中頻和射頻等離子清洗機(jī)之間的主要區(qū)別是

    1.工作頻率:40KHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為40千赫(40,000赫茲),而13.56MHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為13.56兆赫(13,560,000赫茲)。工作頻率不同會(huì)導(dǎo)致設(shè)備清洗效果和適用范圍上的差異。2.清洗效果:40KHz的低頻等離子清洗對(duì)于大多數(shù)材料都可以達(dá)到較好的清洗效果,但對(duì)于一些微米或亞微米級(jí)別的顆?;蛭廴疚锶コЧ赡懿患?。而13.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒尺寸較小的污染物方面具有更高的功效,能夠提供更*的清洗效果。3.清洗速度:13.56...

  • 20241-23
    真空冷阱表面為什么會(huì)有水

    1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來說,空氣主要由氮?dú)?、氧氣和少量其他氣體組成。在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下(約為1個(gè)大氣壓,相當(dāng)于101.325千帕),液態(tài)氮的沸點(diǎn)約為-196攝氏度(-321華氏度),液態(tài)氧的沸點(diǎn)約為-183攝氏度(-297華氏度)。因此,空氣的液化溫度應(yīng)該在這兩個(gè)溫度之間。請(qǐng)注意,這些數(shù)值是在標(biāo)準(zhǔn)條件下給出的,實(shí)際情況可能會(huì)受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。2、當(dāng)空氣的溫度降低到液氮的沸點(diǎn)-196攝氏度(-321華氏度)以下時(shí),氮?dú)獬煞謺?huì)開始液化,從氣體狀...

  • 20241-16
    晶振片故障現(xiàn)象、原因及解決辦法

    探頭故障現(xiàn)象、原因及排除方法1、沉積期間厚度讀數(shù)大跳變a.不良晶片產(chǎn)生解決方案:更換晶片b.晶片接近其使用壽命解決方案:更換晶片c.晶片支承座表面有雜物解決方案:用酒精或細(xì)砂皮清洗支承座d.來自濺射源的頻率干涉解決方案:檢查接地,儀器遠(yuǎn)離濺射源2、沉積期間晶體停振,但晶片壽命未到a.晶片被來自鍍膜源熔化材料小熔滴撞擊解決方案:鍍膜起始階段用檔板遮蔽后移開b.不良晶片解決方案:更換晶片c.晶片支承座內(nèi)腔表面有雜質(zhì)解決方案:清洗3、晶體在真空中振蕩,單暴露空氣后停振a.晶體接近使...

  • 20241-8
    直流負(fù)壓濺射和直流濺射有什么區(qū)別

    直流負(fù)壓濺射和直流濺射在直流濺射中,帶正電的離子被吸引到接地的、帶負(fù)電的濺射靶上,從靶材上濺射出原子,然后這些原子在樣品(也稱為襯底)上沉積形成薄膜。通常情況下,濺射靶被接到正極,而樣品端(襯底)被接到負(fù)極或接地。然而,有些情況下(如反濺射或偏壓濺射),樣品端會(huì)被接到正極以吸引多余的離子,從而實(shí)現(xiàn)清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜和基底的結(jié)合強(qiáng)度。這種電源連接方式可以提高薄膜的層內(nèi)應(yīng)力,改善其結(jié)晶性能,以及提高薄膜沉積效率。這種操作需要一定的注意事項(xiàng),因?yàn)闃悠范松细唠妷嚎赡軙?huì)...

  • 20241-4
    電學(xué)性能測(cè)試

    微型探針臺(tái)是一種可以在不同溫度下對(duì)材料進(jìn)行電學(xué)性能測(cè)試的設(shè)備,它有多種類型和應(yīng)用,主要用于科學(xué)研究和教育實(shí)驗(yàn)。微型探針臺(tái)的工作原理是通過探針與樣品接觸,形成電路,然后通過電學(xué)儀表測(cè)量樣品的電阻、電容、電流、電壓等參數(shù),從而分析材料的特性。微型探針臺(tái)可以測(cè)試不同尺寸和形狀的樣品,例如晶圓、芯片、封裝器件、光電器件、材料片等。微型探針臺(tái)是一種高精度、高效率、高靈活性的測(cè)試設(shè)備,對(duì)于推動(dòng)材料科學(xué)和半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展有重要作用。優(yōu)點(diǎn):體積小,便于搬運(yùn)和安裝。精度高,能夠?qū)ξ⒚准?jí)的樣品進(jìn)...

  • 202312-16
    蒸鍍儀加熱坩堝怎么選擇

    高溫蒸鍍的時(shí)候,靶材和坩堝應(yīng)該怎么選擇蒸鍍鍍鋁建議客戶用陶瓷坩堝:用鎢舟的話容易附著上邊且鋁融化后有一定的浸潤(rùn)會(huì)與鎢舟形成合金鎢舟容易脆裂斷開,鋁極易氧化可以多抽一會(huì)真空真空度越低效果越好蒸鍍鍍鎳建議客戶用鎢棒慘繞鎳絲,鎢舟很薄在一定溫度下化合生成合金相加速鎢的斷裂解決方案:用1.5-2mm的鎢棒長(zhǎng)度95-100中間10mm處繞高純鎳絲(纏繞緊密一些可慘繞2層)

  • 202311-25
    操作需謹(jǐn)慎!小型蒸鍍儀操作時(shí)需要注意這些

    小型蒸鍍儀的工作環(huán)境需要保持極低的氣壓,通常在10-4至10-7帕之間。這種低氣壓環(huán)境能夠有效減少氧氣和水蒸氣對(duì)材料表面的反應(yīng),從而避免蒸鍍過程中可能產(chǎn)生的氧化等不良反應(yīng)。真空系統(tǒng)通常由泵、閥門、壓力計(jì)和真空室等組成。小型蒸鍍儀的使用方法:1.準(zhǔn)備工作:先將蒸鍍儀所需的材料和設(shè)備準(zhǔn)備齊全,如鍍膜材料、基底材料、控制系統(tǒng)等。2.裝載基底:將待鍍膜的基底材料放置在蒸鍍儀的樣品臺(tái)上,確?;妆砻娓蓛羟覠o硬性顆粒。3.準(zhǔn)備鍍膜材料:根據(jù)實(shí)際需要,選擇合適的鍍膜材料,并將其放置在蒸鍍儀...

共 120 條記錄,當(dāng)前 6 / 15 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉(zhuǎn)到第頁 
<蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链>