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News Center小型蒸鍍儀在材料科學和工程領域中發揮著重要作用，廣泛應用于微電子、光電子、材料科學等領域。熱蒸發是一種將固態材料迅速加熱并使其轉變為蒸汽的過程。固態材料(如金屬或非金屬)被放置在加熱源中，當加熱源加熱到一定溫度時，該材料開始蒸發。蒸發的材料蒸汽在真空環境中自由擴散，并沉積到待鍍物表面形成薄膜。小型蒸鍍儀常見的應用領域：1.微電子工業：在微電子工業中用于制備集成電路、半導體芯片和顯示器件等。通過在基板上沉積金屬薄膜或半導體材料，可以實現電路的連接和器件性能的改善。2.光電子工業...
【新品發布】——突破極限，1000°高溫探針臺震撼上市！我們非常榮幸地宣布推出全新的1000°高溫探針臺。這款產品是我們經過不懈努力和持續創新的成果，將為您在高溫實驗領域帶來了全新的體驗。1000度高溫真空探針臺（High-TemperatureVacuumProbeStation）主要應用于半導體、材料科學、納米技術、光電子、薄膜技術等領域，具有以下用途：1.半導體器件測試與表征：用于不同溫度下的半導體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2.材料性能表征：研究和測試...
小型濺射儀是種常見的表面處理設備，其原理是利用高能離子束轟擊固體材料，以改變其表面性質。主要由濺射靶、工作室、真空系統、控制系統等組成。其中關鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質的物質組成，如金屬、陶瓷等。工作室是一個真空環境，用于避免氧氣、水蒸氣等對濺射過程的干擾。在工作時，首先需要將工作室抽成高真空狀態。通過真空泵抽取工作室內的氣體，減少對離子束的干擾。接下來，將濺射靶放置在工作室內，并將需要處理的物體(如基板)放在靶的正對方向。然后，靶與工作室中...
等離子刻蝕機是通過將氣體放電產生等離子體，利用等離子體中的能量來刺激表面上的分子和原子，從而實現清洗和刻蝕的。具體來說，主要包括以下幾個部分：真空腔體、氣體供應系統、放電系統和噴射系統。首先，在真空腔體內建立高度的真空環境，這是因為等離子體只能在真空環境中穩定存在，而且真空環境可以減少雜質對刻蝕過程的干擾。然后，氣體供應系統會向真空腔體內注入一定比例的工作氣體和反應氣體。工作氣體一般是沒有參與反應的氣體，例如氬氣或氮氣，而反應氣體則是用于反應的氣體，例如氟元素或氯元素。這樣的...
“2023全國天線年會”將于2023年8月20日至23日在哈爾濱召開，會議的目的是為天線技術領域的專家學者、研究生、工程技術及管理人員提供一個交流學術、科研成果及技術最新發展的平臺。熱忱歡迎從事天線理論研究、技術開發、裝備生產與應用的專家學者、研究生和技術人員積極投稿并參會。會議期間將同時舉辦天線、微波儀器與設備、電磁兼容、電磁場仿真軟件等產品的展覽。本次我們展覽的產品是小型直流磁控濺射儀和一英寸真空探針臺。
氣體溫度控制儀是用于控制氣體溫度的設備。它可以測量氣體的溫度，并根據設定的溫度來控制加熱或制冷設備，從而實現對氣體溫度的準確控制。主要包括傳感器、控制器和執行器三部分。傳感器是用于測量氣體溫度的關鍵組件。傳感器一般采用熱電偶或熱電阻等技術來測量氣體的溫度。它們都是基于物質的溫度特性來工作的。當氣體溫度發生變化時，傳感器會產生相應的電信號?？刂破魇怯糜谔幚韨鞲衅餍盘柌⒏鶕O定的溫度來控制執行器的部件?？刂破饕话悴捎梦⑻幚砥骰騊LC等技術來實現。它通過對傳感器信號進行處理和比較，...
高低溫鼓泡罐是種常見的實驗儀器，主要作用是控制溶液的溫度，使反應物在適宜的溫度下發生反應，提高反應效率。利用外部的加熱和冷卻裝置來調節罐內的溫度。罐體通常由耐熱材料制成，內部設有加熱器和冷卻器。加熱器可以通過電熱棒或加熱管等方式向罐內加熱，而冷卻器則通過循環水或液氮等冷卻介質來將罐內溫度降低。它的結構和使用方法相對簡單，但在實驗過程中需要注意控制溫度的升降速度。既可以用來進行高溫反應，又可以用來進行低溫實驗，為科研工作提供了便利。在實驗室中有著廣泛的應用。它可以用來進行高溫反...
Plasma清洗機是一種用于對設備、物料進行清洗的機器。在工業生產中，由于設備和物料的使用，會產生各種污漬和垢層，如果不及時清洗，會影響設備的使用壽命和生產效率。清洗機的出現，實現了自動化清洗，減少了人工操作，提高了清洗效率和清洗質量。其工作原理主要分為以下幾個步驟：預處理：將被清洗物料放入清洗機內，進行加熱、蒸發等預處理工作，使污漬或垢層變得容易被清洗。清洗：將清洗液噴灑到被清洗物料上，通過噴淋或噴射的方式，清洗液可以深入物料表面，將污漬或垢層清除。沖洗：將清洗液沖洗掉，并...
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