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News Center小型濺射儀是種常見的表面處理設備，其原理是利用高能離子束轟擊固體材料，以改變其表面性質(zhì)。主要由濺射靶、工作室、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。其中關(guān)鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質(zhì)的物質(zhì)組成，如金屬、陶瓷等。工作室是一個真空環(huán)境，用于避免氧氣、水蒸氣等對濺射過程的干擾。在工作時，首先需要將工作室抽成高真空狀態(tài)。通過真空泵抽取工作室內(nèi)的氣體，減少對離子束的干擾。接下來，將濺射靶放置在工作室內(nèi)，并將需要處理的物體(如基板)放在靶的正對方向。然后，靶與工作室中...
等離子刻蝕機是通過將氣體放電產(chǎn)生等離子體，利用等離子體中的能量來刺激表面上的分子和原子，從而實現(xiàn)清洗和刻蝕的。具體來說，主要包括以下幾個部分：真空腔體、氣體供應系統(tǒng)、放電系統(tǒng)和噴射系統(tǒng)。首先，在真空腔體內(nèi)建立高度的真空環(huán)境，這是因為等離子體只能在真空環(huán)境中穩(wěn)定存在，而且真空環(huán)境可以減少雜質(zhì)對刻蝕過程的干擾。然后，氣體供應系統(tǒng)會向真空腔體內(nèi)注入一定比例的工作氣體和反應氣體。工作氣體一般是沒有參與反應的氣體，例如氬氣或氮氣，而反應氣體則是用于反應的氣體，例如氟元素或氯元素。這樣的...
“2023全國天線年會”將于2023年8月20日至23日在哈爾濱召開，會議的目的是為天線技術(shù)領(lǐng)域的專家學者、研究生、工程技術(shù)及管理人員提供一個交流學術(shù)、科研成果及技術(shù)最新發(fā)展的平臺。熱忱歡迎從事天線理論研究、技術(shù)開發(fā)、裝備生產(chǎn)與應用的專家學者、研究生和技術(shù)人員積極投稿并參會。會議期間將同時舉辦天線、微波儀器與設備、電磁兼容、電磁場仿真軟件等產(chǎn)品的展覽。本次我們展覽的產(chǎn)品是小型直流磁控濺射儀和一英寸真空探針臺。
氣體溫度控制儀是用于控制氣體溫度的設備。它可以測量氣體的溫度，并根據(jù)設定的溫度來控制加熱或制冷設備，從而實現(xiàn)對氣體溫度的準確控制。主要包括傳感器、控制器和執(zhí)行器三部分。傳感器是用于測量氣體溫度的關(guān)鍵組件。傳感器一般采用熱電偶或熱電阻等技術(shù)來測量氣體的溫度。它們都是基于物質(zhì)的溫度特性來工作的。當氣體溫度發(fā)生變化時，傳感器會產(chǎn)生相應的電信號?？刂破魇怯糜谔幚韨鞲衅餍盘柌⒏鶕?jù)設定的溫度來控制執(zhí)行器的部件?？刂破饕话悴捎梦⑻幚砥骰騊LC等技術(shù)來實現(xiàn)。它通過對傳感器信號進行處理和比較，...
高低溫鼓泡罐是種常見的實驗儀器，主要作用是控制溶液的溫度，使反應物在適宜的溫度下發(fā)生反應，提高反應效率。利用外部的加熱和冷卻裝置來調(diào)節(jié)罐內(nèi)的溫度。罐體通常由耐熱材料制成，內(nèi)部設有加熱器和冷卻器。加熱器可以通過電熱棒或加熱管等方式向罐內(nèi)加熱，而冷卻器則通過循環(huán)水或液氮等冷卻介質(zhì)來將罐內(nèi)溫度降低。它的結(jié)構(gòu)和使用方法相對簡單，但在實驗過程中需要注意控制溫度的升降速度。既可以用來進行高溫反應，又可以用來進行低溫實驗，為科研工作提供了便利。在實驗室中有著廣泛的應用。它可以用來進行高溫反...
Plasma清洗機是一種用于對設備、物料進行清洗的機器。在工業(yè)生產(chǎn)中，由于設備和物料的使用，會產(chǎn)生各種污漬和垢層，如果不及時清洗，會影響設備的使用壽命和生產(chǎn)效率。清洗機的出現(xiàn)，實現(xiàn)了自動化清洗，減少了人工操作，提高了清洗效率和清洗質(zhì)量。其工作原理主要分為以下幾個步驟：預處理：將被清洗物料放入清洗機內(nèi)，進行加熱、蒸發(fā)等預處理工作，使污漬或垢層變得容易被清洗。清洗：將清洗液噴灑到被清洗物料上，通過噴淋或噴射的方式，清洗液可以深入物料表面，將污漬或垢層清除。沖洗：將清洗液沖洗掉，并...
鄭科探6寸氣浮手動探針臺，全新設計優(yōu)化，新增樣品保護功能（針座平臺不抬升，探針不脫離，氣動快速移動無法使用，保護樣品因操作不當造成損傷）；顯微鏡龍門XY平移臺同軸微調(diào)，顯著弱小平移臺空間體積。晶圓探針臺是一種半導體測試設備，主要用于測試半導體晶圓上芯片的電學性能。晶圓探針臺通常由機械部分和電子部分組成。機械部分由一個精密機械結(jié)構(gòu)、探針、微動系統(tǒng)、信號線等組成，用來精確定位和接觸芯片，保證測試結(jié)果的準確性和可靠性。電子部分由信號發(fā)生器、示波器、測量儀等測試設備和控制程序、數(shù)據(jù)處...
真空加熱腔體是一種常用于熱處理、電子元器件烘干、材料結(jié)晶等領(lǐng)域的設備。其主要原理是利用高真空(約為10^-1~10^-5Pa)下的復雜相互作用，將樣品置于真空中，并通過在腔體內(nèi)通入電流使加熱物體達到熱平衡。以下是詳細原理介紹：1.真空環(huán)境內(nèi)膽必須在高度真空的狀態(tài)下進行工作，以消除氣氛對測試結(jié)果的影響。為了實現(xiàn)這個目標，在真空腔體撤出之前，它必須被洗凈并加熱至300°C以上，然后泵收銀和腔內(nèi)被檢測物質(zhì)的氣體。排放由輝光效應激發(fā)而產(chǎn)生的氣體或容器本身吸附的氣體；達到熱壓縮狀態(tài)，以...
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